Home
For authors
Submission status

Archive
Archive (English)
Current
      Volume 117
      Volume 116
      Volume 115
      Volume 114
      Volume 113
      Volume 112
      Volume 111
      Volume 110
      Volume 109
      Volume 108
      Volume 107
      Volume 106
      Volume 105
      Volume 104
      Volume 103
      Volume 102
      Volume 101
      Volume 100
      Volume 99
      Volume 98
      Volume 97
      Volume 96
      Volume 95
      Volume 94
      Volume 93
Search
VOLUME 115 | ISSUE 5 | PAGE 297
Двухфотонная лазерная литография активных резонаторных микроструктур
Abstract
Создание активных флуоресцентных микроструктур с заданными параметрами является важной задачей интегральной оптики. Одним из наиболее эффективных методов изготовления таких микроструктур является метод лазерной двухфотонной литографии. Однако большинство используемых в данной технологии полимеров обладают относительно низким квантовым выходом флуоресценции. В данной работе исследованы свойства резонаторных микроструктур, полученных указанным методом из гибридных полимеров с добавлением различных красителей. Продемонстрирована возможность формирования качественных микроструктур из активированных полимеров, сохранение их люминесцентных свойств после полимеризации в поле интенсивного лазерного излучения, а также снижение экспозиции лазерной двухфотонной литографии на 2 порядка при наличии в полимере красителя Кумарин-1. Методом нелинейной оптической микроскопии показано, что в микрорезонаторных структурах на основе полимера с красителем реализуется пространственное распределение рассеяного излучения флуоресценции, соответствующее возбуждению резонаторных мод или мод шепчущей галереи.