Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 81-92
   Volumes 61-80
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
   Volumes 41-60
      Volume 60
      Volume 59
      Volume 58
      Volume 57
      Volume 56
      Volume 55
      Volume 54
      Volume 53
      Volume 52
      Volume 51
      Volume 50
      Volume 49
      Volume 48
      Volume 47
      Volume 46
      Volume 45
      Volume 44
      Volume 43
      Volume 42
      Volume 41
Search
VOLUME 59 (1994) | ISSUE 2 | PAGE 123
Переход полупроводник - металл в аморфном антимониде галлия при высоком давлении
Исследован механизм индуцируемого давлением перехода полупроводник -металл в объемных образцах аморфного антимонида галлия, синтезированных методом твердофазной аморфизации кристаллической модификации высокого давления GaSb П. Обнаружено, что переход α-GaSb в металлическое состояние при Ρ ss 3,5-4, ОПТа сопровождается значительной аномалией сжимаемости и необратимыми релаксационными процессами. Сделан вывод о том, что эффект металлизации α-GaSb не может быть обусловлен перестройкой только электронной подсистемы и связан с изменением структуры аморфной тетраэдрической сетки и переходом ее в более плотно упакованное состояние.