Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 81-92
   Volumes 61-80
   Volumes 41-60
   Volumes 1-20
   Volumes 21-40
      Volume 40
      Volume 39
      Volume 38
      Volume 37
      Volume 36
      Volume 35
      Volume 34
      Volume 33
      Volume 32
      Volume 31
      Volume 30
      Volume 29
      Volume 28
      Volume 27
      Volume 26
      Volume 25
      Volume 24
      Volume 23
      Volume 22
      Volume 21
Search
VOLUME 33 (1981) | ISSUE 7 | PAGE 377
О плотности состояний в МДП структурах
PACS: 71.20.+c, 73.40.Qv
Исследуется плотность состояний двумерной плазмы в случайном потенциале поверхности полупроводниковой составляющей металл диэлектрик полупроводник (МДП) структуры. Показано, что взаимодействие электронов с учетом сил отражения приводит к сильной зависимости плотности состояний от толщины диэлектрической проолойки.