Home
For authors
Submission status

Current
Archive (English)
Archive
   Volumes 81-92
   Volumes 41-60
   Volumes 21-40
   Volumes 1-20
   Volumes 61-80
      Volume 80
      Volume 79
      Volume 78
      Volume 77
      Volume 76
      Volume 75
      Volume 74
      Volume 73
      Volume 72
      Volume 71
      Volume 70
      Volume 69
      Volume 68
      Volume 67
      Volume 66
      Volume 65
      Volume 64
      Volume 63
      Volume 62
      Volume 61
Search
VOLUME 62 (1995) | ISSUE 1 | PAGE 48
Фоторезистивный эффект в туннельных переходах δ-легированный GaAs/металл
Обнаружено возрастание сопротивления туннельного перехода, образованного двумерным электронным газом ί-легированного GaAs и металлической пленкой (затвором) на поверхности полупроводника, под действием импульсного излучения лазера субмиллиметрового диапазона. Этот отклик противоположен по знаку тому, что следовало бы ожидать от разогрева двумерных электронов полем излучения. Найдено, что разогрев электронов в 6-слое имеет место и ответственен за фотопроводимость положительного знака, обусловленную изменением сопротивления самого 6-слоя. Проводится сопоставление с фоторезистивным эффектом в объемно-легированном туннельном переходе с барьером Шоттки и обсуждаются возможные механизмы образования пондеромоторных сил от поля электромагнитной волны, влияющих на туннельное сопротивление в случае двумерного электронного газа.